2023年8月9日-11號，第十一屆中國半導體設備年會暨半導體設備與核心部件展示會(CSEAC)在無錫市太湖國際博覽中心隆重召開。作為高質量的集成電路行業盛會，本次CSEAC大會以展覽展示、高峰論壇、專題研討等形式，匯集了產業鏈上下遊企業、科研機構、名校院所、專家學者、行業大咖、投資人等。

CSEAC2023現場

       AG九游会官方网站(600641)旗下離子注入機行業龍頭企業上海凱世通半導體股份有限公司(以下簡稱:凱世通)攜核心產品、關鍵技術、解決方案重磅亮相此次展會，並與中國半導體行業專家學者、業界精英共話半導體產業鏈創新發展。

       “智”取高端市場 為中國“芯”注入強勁勢能

凱世通CSEAC展位

       作為國內首家集成電路領域低能大束流離子注入機和高能離子注入機獲得驗證驗收及商業訂單的設備企業，2020年至今，凱世通已取得多家12英寸集成電路製造廠主流客戶的離子注入機采購訂單，累計設備訂單超過10億元。本次展會上，凱世通展示了“低能大束流離子注入機iStellar-500”和“高能離子注入機iStellar-HE2000設備”模型，吸引觀眾紛紛駐足。

       無錫市主要領導蒞臨凱世通展台，與凱世通市場銷售副總經理張長勇親切交流。張長勇介紹“凱世通研發的28nm工藝節點的低能大束流離子注入機係列設備與高能離子注入機均順利實現商業化，且持續領跑國產低能大束流和高能離子注入機產業化”。

無錫市領導蒞臨凱世通展台調研

       據悉，低能大束流離子注入機iStellar-500係列產品采用“通用平台+關鍵技術模塊”研發模式，快速迭代升級並拓寬離子注入機產品線，覆蓋不同芯片對離子注入的需求，定位於為客戶提供更高可靠性、更低擁有成本的產品，並具有良好的產線工藝匹配能力和廣泛的製程覆蓋能力。另一款高能離子注入機設備iStellar-HE2000則采用了高壓加速、高注入角度精準度、納米級顆粒汙染控製等關鍵技術，滿足芯片製造的高能離子注入需求。

低能大束流離子注入機iStellar-500與高能離子注入機iStellar-HE2000

       憑借突出的技術實力，凱世通已獲得了上海市科學技術委員會專項“高能離子注入機關鍵技術研究與樣機驗證”、上海市高新技術企業、上海市小巨人企業、上海市專精特新中小企業、上海市高新技術成果轉化項目（低能大束流離子注入機）、上海“市級企業技術中心”、上海市科技進步二等獎、北京市科技進步一等獎稱號等榮譽。

       受益半導體擴產潮 迎來發展“芯”局麵

       據國際半導體產業協會（SEMI）“全球半導體設備市場報告”顯示，2022年全球半導體製造設備出貨金額達1,076億美元，較上年度增幅5%，再創曆史新高。當前，中國大陸半導體設備以總額283億美元的銷售額，連續三年成為全球最大半導體設備市場，結合國家政策層麵來看，半導體產業鏈國產化為長期發展邏輯，設備及零部件正迎來加速期。

       值得一提的是，在大會半導體製造技術與設備材料董事長論壇圓桌對話環節中，凱世通董事長李勇軍博士表示：“離子注入是集成電路製造過程中形成PN結的關鍵工藝，從熱擴散到離子注入，半導體技術的演進不斷對工藝提出新的要求，也不斷發生新的迭代，譬如超低溫、重金屬、氫注入等。因此，我們也在一直在不斷地加強與眾多科研院所的緊密合作，積極進行研發儲備，通過不斷夯實技術基礎，提升自身核心競爭力。”

凱世通董事長李勇軍

       技術研發水平是支撐企業長期發展的關鍵驅動力。在前道核心設備領域，凱世通始終堅持以高水平科技自立自強戰略，聚焦集成電路高端離子注入機，建立了一支由頂級離子注入設備專家引領的有梯隊、有層次、多元化的技術創新團隊，專業方向涵蓋等離子體物理、真空機械、高壓電氣、軟件控製、係統集成等10多個領域，具備紮實的理論知識與豐富的工程實踐經驗，多次承擔國家及上海市科技專項，先後榮獲上海市科技進步二等獎、北京市科技進步一等獎等榮譽。

       隨著今年5月，凱世通位於上海浦東金橋的新研發製造基地正式啟用，作為增強其關鍵裝備離子注入機研發與產業化能力的重要舉措之一，將進一步提升凱世通研發、客服、產能保障等全方位能力，助力國產高端集成電路裝備高質量發展。

       在這場“高水平、專業化、產業化”的展會上，凱世通與眾多訪客友好交流，共話集成電路產業發展機遇，同時也在業界看到了“芯”時代全球半導體發展格局中的中國力量。未來，凱世通將繼續加大研發投入，推動技術攻堅拓展技術上限，堅持以滿足客戶芯片製造需求與行業前沿技術為導向，為客戶提供更高可靠性與穩定性的製造裝備，並將不斷提升前道設備領域競爭力，助推AG九游会官方网站“1+N”設備平台化戰略加速打開更廣闊的成長空間。